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光刻機光學鏡頭——大黑馬
最新消息
12023年4月29日,中國半導體行業協會就日方計劃擴大半導體制造設備出口管制范圍發布嚴正聲明。
2.光刻機核心技術光學系統、曝光光源系統、雙工作臺、浸沒系統等系統組成,其中光學系統是光刻機的核心,光刻機最小工藝節點越小,對光學系統的精度要求越高。
3.光刻機市場格局
2022年全球光刻機三分天下,(荷)阿斯麥ASML占82%,(日)佳能10%,(日)尼康8%。(此次日半導體設備出口管制就是佳能和尼康)
4.光刻機光學主要供應商蔡司占82%、佳能10%、尼康8%。(此次,日限制佳能、尼康,德限制蔡司)
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6.光刻機中國版的小蔡司——晶方科技
晶方科技控股81.09%子公司荷蘭Anteryon為阿斯麥ASML提供光學鏡頭,ASML是Anteryon最大的客戶,收入主要來源。阿斯麥ASML和Anteryon均是位于荷蘭埃因霍溫市。
7,光刻機中國版的小蔡司——茂萊光學
為上海微電子供應光刻機透鏡,茂萊光學的光學器件用在i-line光刻機上,但其工藝相比蔡司供貨給ASML的EUV光學系統在精度和光潔度差距很大,技術上比晶方科技子公司Anteryon略差,Anteryon獲得阿斯麥ASML認證。
總結
光刻機被荷蘭阿斯麥ASML、日本佳能、尼康壟斷。其中光學系統,荷蘭阿斯麥ASML光學鏡頭來自德的蔡司,德限制蔡司,日限制半導體設備佳能、尼康。晶方科技子公司Anteryon的光學鏡頭技術已順利移植到蘇州落地,中科院微電子聯合晶方科技攻克MEMS項目(1.25億經費)。
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